産業スパイ法を拡大しコア技術を保護

近年、グローバルな技術覇権争いが激化するなか、半導体製造プロセスや次世代エネルギー関連の基幹技術をめぐる不正取得の試みが急増しています。これに対応するため、国家基盤を支える戦略技術を対象とした産業スパイ関連法の適用範囲が大幅に拡張されました。

今回の法改正では、単なる営業秘密の持ち出しにとどまらず、第三国への不正開示や意図的なリバースエンジニアリング行為も重罰の対象として明確化されました。研究開発段階における未公開データも法的な保護対象に含まれます。

• 半導体・バイオ・量子技術を含む「国家重要技術」の定義拡張とリスト更新
• 不正取得および国外漏洩に対する懲役刑と巨額罰金の上限引き上げ
• サプライチェーン全体を網羅するデジタルアクセスログの保管義務付け

先端技術のサプライチェーンは世界規模で結びついているため、国内法の整備だけでなく国際的な法執行機関との情報連携が不可欠です。クロスボーダーな調査権限の相互承認や、不審な取引情報の早期共有プロトコルが策定されました。

部品サプライヤーや受託製造業者を含むエコシステム全体でのセキュリティ基準の底上げが進められており、認証を取得した企業に対しては税制優遇や公的調達における加点措置が適用されます。